24 сентября 2025 г.
23 сентября на площадке российского форума «Микроэлектроника 2025» подписан договор на поставку первой отечественной установки совмещения и проекционного экспонирования c разрешением 350 нм (фотолитографа) между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и Отраслевыми решениями (входят в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT, резиденты ОЭЗ «Технополис Москва»), в развитие подписанного годом ранее соглашения ЗНТЦ и Микрона (входит в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT), резидента ОЭЗ «Технополис Москва».
Фотолитограф ЗНТЦ предназначен для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольшой интегральной схемы (СБИС) с проектной топологической нормой 350 нм. Договор, подписанный генеральным директором АО «ЗНТЦ» Анатолием Ковалевым и генеральным директором АО «Отраслевые решения» Дмитрием Ершом, включает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования.
«В ходе проекта мы совместно с ЗНТЦ работали над технологией переноса изображения под задачи Элемента и Микрона. Подтверждено соответствие всем параметрам, заявленным в техзадании на ОКР», — сообщила Гульнара Хасьянова, генеральный директор АО «Микрон», председатель совета директоров АО «Отраслевые решения».
«Сегодня мы закладываем фундамент нового этапа развития отечественной микроэлектроники. В ЗНТЦ завершена разработка установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм, ее параметры подтверждены на производственной площадке, осуществляется переход к серийному производству. Это первый шаг в создании линейки российских литографов. Создан серьезный задел, который позволяет нам перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм», — сказал Анатолий Ковалев, генеральный директор АО «ЗНТЦ».
«Перед нами стоит задача запустить производство электронной компонентной базы мирового класса. Литограф ЗНТЦ предназначен для топологических норм до 350 нм, которые используются в силовой электронике, автоэлектронике и промышленных системах», — отметил Дмитрий Ерш, генеральный директор АО «Отраслевые решения».
Установка совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм создана в рамках реализации одного из первых проектов госпрограммы по локализации в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами
Соглашение о сотрудничестве в освоении технологий и производстве фотолитографического оборудования для решения задач импортозамещения было подписано между ЗНТЦ и Микроном 24 сентября 2024 года.
Источник: Пресс-служба компании «Микрон»
