Противостояние между США и КНР в экономической области особенно остро проявляется на микропроцессорном направлении: ещё в первый срок президентства Дональда Трампа (Donald Trump) экспорт высокотехнологичных товаров и, в особенности, технологий их производства в материковый Китай был существенно ограничен, и с тех пор гайки только затягивались. В ближней и среднесрочной перспективе результативность таких рестрикций бесспорна: компаниям вроде Huawei запрещено заказывать микросхемы про своим чертежам у тайваньской TSMC или иных чипмейкеров, использующих запатентованные в США технологии, а полупроводниковая отрасль Поднебесной лишена возможности закупать новейшие фотолитографы у единственного в мире их производителя (тоже опирающегося на американские разработки и подрядчиков из США), голландской ASML.

Однако уже на интервале 5-7 лет и более эффективность взятого властями Штатов курса на отсечение КНР от наиболее передовых высоких технологий представляется сомнительной. Ещё в 2024 г. Джина Раймондо (Gina Raimondo), министр торговли США, координировавшая усилия администрации Джо Байдена (Joe Biden) по ограничению прогресса Китая в области разработки и применения новейших микросхем, признала эти усилия «пустой затеей»: «Единственный способ победить Китай — это оставаться впереди него. Мы должны двигаться быстрее, опережать его в инновациях, а не тратить ресурсы на внедрение и поддержание экспортного контроля».

Бывшая министр как в воду глядела: предоставленная самой себе, Поднебесная не стала сидеть сложа руки, а активно эксплуатировала имевшиеся у локальных чипмейкеров импортные литографические установки DUV (отстающие на 2-3 поколения от тех современных машин, что поставляет сегодня ASML своим одобренными властями США заказчикам — Intel, TSMC, Samsung Electronics) и параллельно разрабатывала свои собственные аналогичные агрегаты. И вот, как сообщает издание The Information со ссылкой на свои источники, некая неназванная госкомпания из Шанхая уже приступила к серийному производству первых в Китае установок для иммерсионной DUV-литографии.

Первыми клиентами команды таинственных умельцев (составленной, по словам упомянутых источников, из целого ряда перспективных стартапов, работавших в последние годы над такого рода проектами) станут ведущие локальные чипмейкеры — SMIC, Hua Hong и CXMT; им в общей сложности до конца года достанется до пяти импортозамещённых литографических агрегатов. На 2027-й запланировано изготовление ещё около 20 таких станков. Указывается, что доля произведённых внутри КНР компонентов в этих литографах крайне высока, хотя ряд ключевых узлов пока продолжают импортировать из Японии, компании которой владеют (пусть и не самыми передовыми) технологиями микропроцессорного производства собственной разработки — и потому на них американские рестрикции, в отличие от ASML, не распространяются.

Понятно, что наверстать огромный технологический отрыв от США и их союзников в области микроэлектроники материковому Китаю будет непросто. Однако парадоксальным образом на руку ему играет нынешний острейший дефицит микросхем памяти — которые изготавливают по куда менее миниатюрным, чем сверхсовременные центральные и графические процессоры, производственным нормам (условно, «10 нм» против «2 нм»). Как раз по этой причине продукция, выпускаемая на разработанных внутри КНР установках — пусть с немалой долей брака на выходе, пусть в сравнительно небольших объёмах на первых порах — окажется остро востребована.

Причём востребована не только внутри страны, но по всему миру: уже сегодня CXMT продаёт свои чипы памяти DDR5 и тайваньским, и даже американским вендорам — включая Corsair, Lexar, HP и Dell — даже дороже, чем Samsung Electronics, а Gigabyte, MSI и Asus спешно добавляют поддержку модулей DIMM с этими микросхемами в BIOS своих системных плат. Всё дело в том, что и Samsung, и другие изготовители памяти перевели бóльшую часть своих мощностей на выпуск чипов, ориентированных на применение в ИИ-серверах (поскольку заказчики тех не скупятся, обеспечивая чипмейкерам неслыханную маржу); соответственно, микросхем DRAM для смартфонов, ПК и даже классических серверов общего назначения в мире остро не хватает.

Выходит, даже неторопливый и не слишком масштабный запуск в работу импортозамещённых фотолитографов в КНР обеспечит поставку на внешний рынок дополнительных объёмов сверхвостребованных микросхем, что позволит таинственной шанхайской госкомпании стремительно реинвестировать полученную прибыль в дальнейшее совершенствование своих агрегатов — и ещё более впечатляющими темпами сокращать отставание от японских и голландских коллег.

Учитывая же, что в материковом Китае ведутся ещё и разработки вполне передовых EUV-фотолитографов, начала работы первых предсерийных образцов которых эксперты Reuters ожидают не ранее 2030 г., со словами госпожи Раймондо есть резон согласиться. Попытки сдержать КНР на этом направлении имеют все шансы обернуться для США собственноручным взращиванием глобального конкурента с полностью независимым технологическим циклом, соперничать с которым на мировой арене в условиях активно формирующейся сегодня политической и экономической многополярности будет откровенно непросто.

Источник: