Частные компании в сотрудничестве с государственными научно-исследовательскими лабораториями приступают к выполнению проекта, который должен вновь подтвердить справедливость закона Мура.
Группа компаний, возглавляемая ведущими изготовителями микросхем (Intel, AMD и Motorola), с целью разработки передовой технологии литографии, начинает сотрудничество с Виртуальной национальной лабораторией (Virtual National Laboratory, VNL), в которую входят три лаборатории Министерства энергетики США: Sandia National Laboratories, Lawrence Livermore Laboratory and Lawrence Berkeley National Laboratory.
Литография в крайнем ультрафиолете (Extreme Ultra Violet, EUV) обещает вновь подтвердить закон Мура, дав возможность изготавливать микросхемы с шириной проводников менее 0,1 мкм, что обеспечит еще более плотную упаковку цепей на кристалле. Как отмечают исследователи, новый технологический процесс позволит получать микросхемы, которые будут обладать в 100 раз более высоким быстродействием и в 100 раз большим объемом памяти, чем это возможно при использовании сегодняшних технологических процессов.
Еще 35 лет назад один из основателей корпорации Intel Гордон Мур выявил закономерность, согласно которой мощность микросхем удваивается примерно каждые полтора года. Это наблюдение стало руководящим принципом развития всей полупроводниковой отрасли.
Intel рассчитывает, что переход на технологию EUV продлит действие закона Мура, тогда как нынешняя технология литографии, используемая при производстве микросхем, уже на пределе своих возможностей.
Рик Стулен, главный управляющий производственной деятельностью VNL, рассказал, что первые микросхемы, выпущенные по EUV-технологии, будут работать с тактовой частотой примерно 10 ГГц. Тактовая частота самых быстродействующих микросхем, выпускаемых сегодня компаниями Intel и AMD, составляет 1 ГГц. Стремясь проиллюстрировать точность, требуемую при изготовлении микросхем методом EUV-литографии, исследователи сравнили ее с точностью, которая необходима для того, чтобы нарисовать 25-центовую монету на земной поверхности с орбиты космического челнока.
По словам Чака Гуина, директора программы в частном консорциуме EUV LLC, (сотрудничает с государственными учреждениями в области разработки новой технологии), ожидается, что ведущие изготовители микросхем начнут внедрение технологии EUV в 2005 г.
Программа сотрудничества в разработке технологии EUV между государственными лабораториями и изготовителями микросхем — самое крупное соглашение такого рода между частным бизнесом и госсектором — получила финансирование из частного сектора в размере 250 млн. долл.
В мае компания Micron Technology, изготовитель микросхем памяти, заявила, что тоже вступила в консорциум EUV LLC.